Customized Process
Angepasste Technologie
Da es einen Bedarf für stetig bessere Halbleitertechnologie gibt, können standardmäßige CMOS-Verfahren aktuelle Marktanforderungen nicht mehr erfüllen. Zur Bedienung einer breiten, vom Markt geforderten Produktpalette müssen Unternehmen für eine optimale Produktentwicklung eng mit Halbleiterwerken zusammenarbeiten. Zur Realisierung Ihrer speziellen Bedürfnisse besitzt das Halbleiterwerk von Nuvoton eine umfangreiche Erfahrung in der Wafer-Verarbeitung und Verfahrensentwicklung. Zur Schaffung von Mehrwert experimentieren wir fortlaufend mit „vorausschauenden‟ Projekten, da wir den künftigen Bedarf unterstützen möchten.
Plattform für III-V-Materialverarbeitung
Aufgrund vieler IC-Verfahren und einer profunden Erfahrung in Materialeigenschaften verfügen wir über eine bewährte Isolationstechnologie, die es uns ermöglicht, III-V-Materialien in der Si-basierten FAB-Produktion zu gruppieren. Durch Behebung potenzieller Verschmutzungsprobleme können wir jetzt III-V-Materialien im Nuvoton-Halbleiterwerk gruppieren.
Plattform für Sensortechnologie-Verfahren
Durch Einsatz von Deep Trench und Backend-Ätztechnik mit SOI-Technologie fertigten wir eine Vielzahl an Sensoren nach Wundenwunsch (z. B. Druck, Licht und Eigenschaften auf Säurebasis) zur Verwendung in Handheld- und medizinischen Systemen.
Plattform für Verfahren zum Schutz gegen elektrostatische Entladung
Nuvoton verfügt über eine vollständige Plattform für IC-Verfahren zum Schutz gegen elektrostatische Entladung, die für umfassend gegen elektrostatische Entladungen schützt. Die Verfahren sind quer über mehrere Produkte hinweg stark den Kundenanforderungen angepasst.
